三维存储器、其制作方法以及存储系统
实质审查的生效
摘要
本申请提供了一种三维存储器、其制作方法以及存储系统。该方法包括:提供衬底,衬底上具有堆叠体,在堆叠体的台阶区形成台阶结构,台阶结构远离衬底的一侧具有第一表面,各第一表面为不同牺牲层的远离衬底一侧的表面中的部分,第一表面所在的牺牲层为第一牺牲层,除去第一牺牲层之外的牺牲层为第二牺牲层;在第一表面上设置刻蚀阻挡层;在台阶区中形成顺序贯穿衬底和台阶结构至刻蚀阻挡层的伪沟道孔;在各伪沟道孔中依次形成绝缘层和导电支撑部,将第一牺牲层置换为第一控制栅结构,将第一牺牲层置换为第二控制栅结构,并使导电支撑部与第一控制栅结构电连接。上述方法避免了工艺难度较大而导致的相邻栅极之间连接所造成的字线短路。
基本信息
专利标题 :
三维存储器、其制作方法以及存储系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334999A
申请号 :
CN202111676832.1
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙昌志高庭庭夏志良杜小龙刘小欣袁伟
申请人 :
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王晓玲
优先权 :
CN202111676832.1
主分类号 :
H01L27/1157
IPC分类号 :
H01L27/1157 H01L27/11582 H01L27/11575
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/1157
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载