一种等离子体下进气结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种等离子体下进气结构，包括压缩波导和反应筒，所述压缩波导套装在反应筒的外侧，所述压缩波导与反应筒相连接的顶部和底部分别安装有水冷环，所述反应筒的底部法兰面顶侧安装有密封板，所述反应筒的底部法兰面底侧安装有连接座，所述连接座的内部开设有水冷腔，所述连接座的一侧安装有连通所述反应筒中的反应腔的进气管，所述连接座的轴心线处开设有与反应筒的内腔相连通的通孔。本实用新型通过下进气的方式，使对反应腔有腐蚀性的气体远离等离子激发区域，减少反应气体对整个反应腔的腐蚀。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子体下进气结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122954556.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
CN216437543U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
黄嘉杰邬明旭韩文锋于洪威欧阳浩张钦
申请人 ：
合肥优飞材料科技有限公司;中核燃料沧州有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市庐阳工业区兴庐科技产业园2#402,405
代理机构 ：
南京禾易知识产权代理有限公司
代理人 ：
段文静
优先权 ：
CN202122954556.2
主分类号 ：
H05H1/28
IPC分类号 ：
H05H1/28 H05H1/30
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
