一种光刻机的清理机构
授权
摘要

本实用新型公开了一种光刻机的清理机构,包括连接座,所述连接座的底部固定连接有电机一,所述电机一的输出轴固定连接有连接架,所述连接架的底部固定连接有转动架,所述转动架的内腔活动连接有转动块。本实用新型通过开启电机一,电机一的输出轴带动连接架、转动架、转动块、风泵结构和调节结构旋转一定的角度,进而调节风泵结构的轴向角度,通过调节结构调节风泵结构的水平角度,最终实现了方便调节的目的,该光刻机的清理机构具备方便调节的优点,在实际使用过程中能够任意调节风泵结构的角度,从而多角度的对光刻机的工作台进行清理,该清理机构结构简单,适用范围广,方便了使用者使用,提高了光刻机的实用性。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机的清理机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021128047.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-18
授权号 :
CN212207964U
授权日 :
2020-12-22
发明人 :
王作义马洪文魏关成高万智杨虎陈小铎
申请人 :
上海广奕电子科技股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区郭守敬路351号2号楼A644-28室
代理机构 :
北京卫智畅科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈佳
优先权 :
CN202021128047.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-12-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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