测量装置和光刻机
授权
摘要
本发明提供一种测量装置和光刻机，所述测量装置用于检测测量光的偏振相差，所述测量装置包括测量主体、波片、偏振片、旋转台和图像采集分析单元，所述旋转台、所述偏振片和所述图像采集分析单元设置在所述测量主体上，所述旋转台用于驱动所述波片旋转，所述测量光经所述波片、所述偏振片后进入所述图像采集分析单元，所述图像采集分析单元用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差，所述测量装置还包括冷却组件，所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元和/或所述旋转台的热量。本发明中的测量装置和光刻机可改善测量装置和光刻机的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
测量装置和光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112394620A
申请号 ：
CN201910759825.4
公开（公告）日 ：
2021-02-23
申请日 ：
2019-08-16
授权号 ：
CN112394620B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
赵钦浩
申请人 ：
上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201910759825.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G01M11/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2021-03-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190816
申请日 : 20190816
2021-02-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN112394620A.PDF
PDF下载
