一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置，真空室的侧壁开设有若干第一穿孔，每个蒸发源的靶材过盈配合插接于真空室中，每个靶材面向真空室外侧的一端均固定设有密封板，每个密封板位于靶材面向真空室外部一侧，每个密封板均与真空室外侧壁相互贴合，每个永磁铁固定仓均为圆筒状且一端设有开口，每个永磁铁固定仓内均永磁铁，每个永磁铁固定仓远离真空室的一端圆心处均开设有螺纹穿孔，每个螺纹穿孔中螺纹均连接有丝杆，每个丝杆的一端分别与永磁铁固定连接、另一端位于永磁铁固定仓外侧且固定连接有梅花手轮。本实用新型具有保持永磁铁在靶材表面磁场强度稳定、使靶材充分燃烧、增加靶材的利用率、减少靶材跑弧风险的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020983453.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-02
授权号 ：
CN213142167U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
卢国英石昌仑兰睿
申请人 ：
常州夸克涂层科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进区常武中路18号常州科教城大连理工大学常州研究院科技产业大厦B座218—219
代理机构 ：
大连理工大学专利中心
代理人 ：
梅洪玉
优先权 ：
CN202020983453.1
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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