等离子镀膜装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种冷阴极真空电弧型等离子镀膜装置，在冷阴极真空电弧产生的等离子区域内另有电热式金属蒸发源构成复式蒸发离化源。这样的复式蒸发离化源具有任何一单种蒸发源得不到的独特效果。是适用于塑料、玻璃、陶瓷、各种金属部件的多功能复合镀膜装置。
基本信息
专利标题 ：
等离子镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN90206431.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1990-05-14
授权号 ：
CN2067280U
授权日 ：
1990-12-12
发明人 ：
刘树德高庆民周玉福
申请人 ：
苏州市轻工业品设计研究所
申请人地址 ：
215005江苏省苏州市范庄前24号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN90206431.2
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
1994-04-06 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1992-02-19 ：
授权
1990-12-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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