一种半导体高洁净度涂层再生设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体高洁净度涂层再生设备，涉及到半导体技术领域。包括支撑板，所述支撑板的中心设置有圆形通孔，所述圆形通孔内部圆形支撑板，所述圆形支撑板的顶端设置有电机，所述电机的外侧且位于所述圆形支撑板的顶端设置有支撑钢板，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板的中心。有益效果：利用电机带动工作台对半导体进行涂布操作，使半导体的涂布更加均匀，增强了半导体涂布再生的可能性，利用减震装置，缓冲了来自涂层设备外部的震动，使设备的涂层更加均匀，利用水平装置对设备进行水平调整，防止在涂层的过程中因设备发生偏斜而使设备涂布不均匀。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体高洁净度涂层再生设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922106137.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN212633240U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
辛长林阚总峰刘洪刚赵峰
申请人 ：
安徽高芯众科半导体有限公司
申请人地址 ：
安徽省池州市经济技术开发区电子信息产业园21号厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922106137.6
主分类号 ：
B05C5/02
IPC分类号 ：
B05C5/02 B05C13/02 B05C11/08
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射，灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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