一种新型平行光曝光装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
一种新型平行光曝光装置,其包括机台、光源机构和冷却机构,所述光源机构和冷却机构均设置在机台内,所述机台的顶部为玻璃曝光台,且所述玻璃曝光台上设置有密封盖,所述密封盖与机台相铰接,且密封盖盖合在玻璃曝光台上形成用于容纳菲林片和感光物载体的曝光空腔,所述光源机构与玻璃曝光台相对应,所述冷却机构与光源机构相连接,冷却机构将光源机构产生的热量排出机台外,所述机台内设置有移动机构,移动机构设置在玻璃曝光台的下方,光源机构设置在移动机构上,所述光源机构与移动机构活动连接。
基本信息
专利标题 :
一种新型平行光曝光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921491777.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-09
授权号 :
CN210466008U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
范金刚蓝学军胡迷俊
申请人 :
深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
代理机构 :
深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周松强
优先权 :
CN201921491777.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-04 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更后 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
变更后 : 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道广培社区裕新路15号102
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更后 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
变更后 : 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道广培社区裕新路15号102
2020-07-24 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更后 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
变更后 : 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道广培社区裕新路15号102
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更后 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
变更后 : 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道广培社区裕新路15号102
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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