曝光装置
授权
摘要
一种曝光装置，包括光学装置组以及衬底承载平台。光学装置组包括多个光源、至少一旋转式光束偏折元件以及至少一反射镜组。这些光源用以发出多个光束。每一反射镜组包括多个反射镜。衬底承载平台适于使设置于衬底承载平台上的曝光衬底沿着相对移动方向相对于光学装置组移动。这些光束依序经过至少一旋转式光束偏折元件以及这些反射镜而投射至曝光衬底上，其中通过至少一旋转式光束偏折元件的旋转，这些光束投射至曝光衬底上的轨迹形成多条扫描线。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111352306A
申请号 ：
CN201910134999.1
公开（公告）日 ：
2020-06-30
申请日 ：
2019-02-20
授权号 ：
CN111352306B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
林建宏陈泳超许芷玮李育升曾绍崟
申请人 ：
财团法人工业技术研究院
申请人地址 ：
中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张宇园
优先权 ：
CN201910134999.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-07-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190220
申请日 : 20190220
2020-06-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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