一种利用离子溅射与激光复合技术制备石墨烯的方法
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摘要
一种利用离子溅射与激光复合技术制备石墨烯的方法，按以下步骤进行：(1)将纳米碳粉在真空条件下进行热处理，随炉冷却至常温获得热处理纳米碳粉；(2)将热处理纳米碳粉置于离子溅射仪中作为碳靶；对基片进行离子溅射制成碳膜；(3)将覆盖有碳膜的基片置于真空条件下，通过激光发射装置进行激光辐照，激光辐照分为低温辐照、中温辐照和高温辐照三个阶段，在基片表面制成石墨烯。本发明方法制备过程精度高，可控性好，原料利用率达100％，无需处理副产物，清洁环保无污染。
基本信息
专利标题 ：
一种利用离子溅射与激光复合技术制备石墨烯的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110040723A
申请号 ：
CN201910343894.7
公开（公告）日 ：
2019-07-23
申请日 ：
2019-04-26
授权号 ：
CN110040723B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
袁志刚张武
申请人 ：
辽宁烯旺石墨科技有限公司
申请人地址 ：
辽宁省铁岭市调兵山市北工业园区
代理机构 ：
沈阳东大知识产权代理有限公司
代理人 ：
梁焱
优先权 ：
CN201910343894.7
主分类号 ：
C01B32/184
IPC分类号 ：
C01B32/184
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B32/00
碳；其化合物
C01B32/15
纳米级碳材料
C01B32/182
石墨烯
C01B32/184
制备
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2019-08-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01B 32/184
申请日 : 20190426
申请日 : 20190426
2019-07-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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