一种激光溅射原子发生装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种激光溅射原子发生装置,包括壳体,所述壳体内设有激光通道和原子发射通道,在激光通道和原子发射通道之间设置激光反射通道,在所述原子发射通道的一端设有靶材,在所述原子发射通道的另一端设有原子发射孔;所述激光通道内沿入射激光的传播方向依次设有光纤耦合器、准直器及反射镜,所述壳体上对应所述光纤耦合器的位置设有光纤接口,经所述反射镜反射出来的激光穿过激光反射通道进入所述原子发射通道并能投射至所述靶材上。解决了激光与靶材相对分置导致的长距离准直问题和离子阱周边激光入射位占用过多的问题。

基本信息
专利标题 :
一种激光溅射原子发生装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122994501.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-02
授权号 :
CN216288306U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
苏东波郑晨光周卓俊黄毛毛韩琢罗乐
申请人 :
国开启科量子技术(北京)有限公司;广东启科量子信息技术研究院有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区西北旺东路10号院东区5号楼一层108
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122994501.4
主分类号 :
H01J49/16
IPC分类号 :
H01J49/16  H01J49/04  H01S3/02  H01S3/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
H01J49/10
离子源;离子枪
H01J49/16
用表面电离的,如场致发射、热发射或光电发射
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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