一种200mm尺寸的地质芯片封装的制作工艺
公开
摘要

本发明公开了一种200mm尺寸的地质芯片封装的制作工艺,包括真空炉,真空炉的外表面设置有限位杆,限位杆的外表面转动连接有连板,连板的一端固定连接有密封盖,真空炉的侧表面分别设置有抽气管道和氮气管道,真空炉的内部设置有第一隔热层,第一隔热层的内部设置有加热腔,加热腔的内部设置有第二隔热层,第二隔热层的外表面缠绕有加热丝管,且第二隔热层的内壁设置有多个氮气喷头,通入的氮气可以快速的排入第二隔热层内部,避免氮气管道内部堆积大量氮气而增大氮气管道的内部压强,防止较大压力氮气管道产生损坏,多个氮气喷头可以使氮气可以均匀的排放至加热腔内,有助于阻止加热腔内的一些金属发生挥发变形,同时可以提高冷却效果。

基本信息
专利标题 :
一种200mm尺寸的地质芯片封装的制作工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114543538A
申请号 :
CN202210180921.5
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-02-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
何再运
申请人 :
苏州迪可通生物科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区木渎镇枫瑞路58号1幢1层105室
代理机构 :
温州市品创专利商标代理事务所(普通合伙)
代理人 :
洪中清
优先权 :
CN202210180921.5
主分类号 :
F27D9/00
IPC分类号 :
F27D9/00  F27B17/00  F27D7/06  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D9/00
炉的冷却或炉内炉料的冷却
法律状态
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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