一种线性离子装置
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摘要

本实用新型公开了一种线性离子装置,包括底板、上盖、两个侧板及两个端盖,底板、所述上盖、两个侧板及两个端盖围成一腔室,腔室内设有电极及将电极容纳在内的绝缘组件,绝缘组件靠近底板设置,还包括高压线,高压线依次穿过上盖及绝缘组件并与电极电性连接,上盖上还设有与腔室连通的进气孔,底板上设有多个分别与腔室连通的出气孔,多个出气孔在底板上排成若干列且若干列出气孔在底板上间隔设置。本实用新型提供的线性离子装置可一次性对产品的表面进行全面处理,处理过程中无需移动线性离子装置,有效提高工作效率,有效避免出现产品表面的部分区域处理不完全,利于提升产品质量,线性离子装置与不同类型的产品适配,通用性强。

基本信息
专利标题 :
一种线性离子装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123088746.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
CN216565693U
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
蔡卫
申请人 :
深圳市诚峰智造有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼
代理机构 :
深圳市博锐专利事务所
代理人 :
卜科武
优先权 :
CN202123088746.7
主分类号 :
H05H1/34
IPC分类号 :
H05H1/34  
法律状态
2022-05-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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