选择性溅镀方法及其电子产品
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种选择性溅镀方法及其电子产品,选择性溅镀方法包括以下步骤:在待镀件上设有第一区域和第二区域,在所述第一区域涂覆形成紫外胶层;对所述待镀件进行溅镀,形成镀层,所述镀层包括第一镀层和第二镀层,所述第一镀层位于所述紫外胶层远离所述待镀件的一侧,所述第二镀层位于所述第二区域;经过热解将所述紫外胶层和所述第一镀层从所述待镀件上分离。本申请的选择性溅镀方法通过采用紫外胶层实现选择性溅镀,具有适用于多种尺寸的样品,且能够保护规则或者不规则的区域,在溅镀完成后易于去除紫外胶层,无需过多的配套辅助设备,具有降低生产成本,提高产品质量等优点。
基本信息
专利标题 :
选择性溅镀方法及其电子产品
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114427077A
申请号 :
CN202111594625.1
公开(公告)日 :
2022-05-03
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘家政田旭曹延仁
申请人 :
青岛歌尔智能传感器有限公司
申请人地址 :
山东省青岛市崂山区松岭路396号109室
代理机构 :
北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张媛娇
优先权 :
CN202111594625.1
主分类号 :
C23C14/04
IPC分类号 :
C23C14/04 C23C14/34 C23C14/58
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-05-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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