氮化物基发光二极管柔性外延片制作方法及其外延片
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种氮化物基发光二极管柔性外延片制作方法及其外延片，本发明制作方法以氟晶云母为衬底，利用反应溅射方法制备氮化铝为缓冲层并继续利用金属有机物气相沉积法外延氮化物发光二极管结构，利用氟晶云母层状结构且易于解理的材料特性，能方便将氟晶云母上的氮化物基发光二极管结构进行大面积剥离转移，实现以解理后氟晶云母衬底的大尺寸氮化物基发光二极管柔性外延片，整个制作工艺流程操作简易，成本低廉，解理成功率高，易于实现，重复性高，适用于大规模生产。
基本信息
专利标题 ：
氮化物基发光二极管柔性外延片制作方法及其外延片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114284398A
申请号 ：
CN202111005812.1
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-08-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
袁冶王新强黄黎杰张晋刘上锋康俊杰罗巍王维昀李永德王后锦唐波
申请人 ：
松山湖材料实验室
申请人地址 ：
广东省东莞市松山湖大学创新城A1栋
代理机构 ：
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 ：
童海霓
优先权 ：
CN202111005812.1
主分类号 ：
H01L33/00
IPC分类号 ：
H01L33/00 H01L33/12
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/00
申请日 : 20210830
申请日 : 20210830
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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