具有量子点层的外延结构及其制作方法和发光二极管芯片
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种具有量子点层的外延结构及其制作方法和发光二极管芯片,以量子点有源层作为有源区,由于量子点层本身存在三维方向上对载流子的限制作用,从而能够提高发光二极管芯片的发光效率,即使在小电流下也能够实现较高的亮度。以及,本发明以量子点有源层作为有源区,无需为了获得较短的发光波长而提高Al组分,保证了发光二极管芯片的内量子效率较高。并且,本发明通过将非掺杂层的In组分制作为大于N型阻挡层的In组分,使非掺杂层与基底材料存在较大的正失配,为量子点层的生长提供了较好的条件,进而提高了发光二极管芯片的制作质量。
基本信息
专利标题 :
具有量子点层的外延结构及其制作方法和发光二极管芯片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114267759A
申请号 :
CN202111583664.1
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李晓静伏兵黄璐马英杰蔡和勋
申请人 :
扬州乾照光电有限公司
申请人地址 :
江苏省扬州市下圩河路8号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
林哲生
优先权 :
CN202111583664.1
主分类号 :
H01L33/06
IPC分类号 :
H01L33/06 H01L33/00 H01L33/12 H01L33/14
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/06
申请日 : 20211222
申请日 : 20211222
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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