赶液装置及刻蚀机
授权
摘要
本实用新型公开了一种刻蚀机的赶液装置及刻蚀机，赶液装置包括下滚轮和上滚轮。上滚轮和下滚轮之间设有容纳硅片传输的空间，下滚轮转动以带动硅片进行传输。上滚轮包括支架和卡接在支架上的套管，套管包括依次排列且彼此间隔开的多段，支架转动以带动套管在所述硅片上滚动，以挤压硅片上的液体。根据本实用新型的刻蚀机的赶液装置，通过将上滚轮设置成支架和套管的结构，以使支架以带动套管滚动，从而可以用于挤压残留在硅片上的液体，降低电池片出现黑斑、水印、脏污等不良现象，进而达到赶液的效果，提高整个赶液过程的稳定性，以提高电池正品率。
基本信息
专利标题 ：
赶液装置及刻蚀机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021346023.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN212648188U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
易书令姜大俊潘岳林马晓林
申请人 ：
盐城阿特斯阳光能源科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省盐城市经济技术开发区漓江路66号
代理机构 ：
北京景闻知识产权代理有限公司
代理人 ：
卢春燕
优先权 ：
CN202021346023.5
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L31/18
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
