一种干膜曝光系统
授权
摘要

本实用新型涉及一种干膜曝光系统,包括冷镜、固定在横梁上的椭圆集光器、灯体、竖直反射镜和平行反射镜,灯体上方通过椭圆集光器连接有呈倾斜设置的冷镜,冷镜上的照射光穿过平面积光器和竖直反射镜并延伸至平行反射镜上,平行反射镜之间设有曝光照射面,灯体包括灯管,灯管一侧通过导线连接有端子,灯管另一侧通过灯管套盖连接有固定座,固定座和灯管套盖之间通过螺纹连接的方式进行固定,灯管外壁边缘通过内水套连接有外水套,内水套和外水套之间设有置于壳体内部的冷却液,冷却液通过循环泵的方式在灯体内部实现流动。有益效果:本实用新型能够有效及时的进行散热,聚光效果好,提高了曝光的工作效率,有利于产品质量的提高。

基本信息
专利标题 :
一种干膜曝光系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021085760.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-13
授权号 :
CN212658941U
授权日 :
2021-03-05
发明人 :
李贵丛翼杨长林倪超剑
申请人 :
安徽省华兴达光电有限公司
申请人地址 :
安徽省宿州市市辖区宿马园区三期标准化厂房B5栋
代理机构 :
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
马聪
优先权 :
CN202021085760.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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