多馈源微波等离子体装置

授权

摘要

本实用新型涉及等离子体激发装置技术领域，公开了一种多馈源微波等离子体装置，包括反应体、场强辅助增强结构和至少一层微波源组件，反应体内设有微波谐振腔；每层微波源组件均包括多个微波激励源，多个微波激励源沿反应体的周向分布于反应体的侧壁；场强辅助增强结构包括实体锥芯、第一锥形管和第二锥形管，第一锥形管和第二锥形管分别设置于反应体的两端；实体锥芯同轴插设于第一锥形管内，实体锥芯与第一锥形管之间的间隔形成第一气体流道；第二锥形管内设有第二气体流道。该多馈源微波等离子体装置可以提高电场强度，在多个微波激励源同时工作时能够在双尖端结构形成连续贯通的高能量密度等离子体，利于化学反应的完全性。

基本信息

专利标题：

多馈源微波等离子体装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020534449.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-13

授权号：

CN212278529U

授权日：

2021-01-01

发明人：

王群卫博唐章宏王明连金鑫李永卿

申请人：

北京工业大学

申请人地址：

北京市朝阳区平乐园100号

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

张琪

优先权：

CN202020534449.7

主分类号：

H05H1/30

IPC分类号：

H05H1/30 H05H1/24