一种表面具有纳米齿状的半导体用石墨
公开
摘要
本发明提供了一种表面具有纳米齿状的半导体用石墨，包括石墨体，所述石墨体的表面成型有纳米齿状的凸起结构，所述纳米齿状的凸起结构通过在密闭的金属容器中经高温氧化处理后在所述石墨体表面成型。本发明提供的石墨体表面成型有纳米齿状的凸起结构，这样的结构有助于提高石墨体表面硅的负载量，进而增加其电化学容量。
基本信息
专利标题 ：
一种表面具有纳米齿状的半导体用石墨
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114620720A
申请号 ：
CN202011461237.1
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-12-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
汪洋
申请人 ：
湖南德智新材料有限公司
申请人地址 ：
湖南省株洲市天元区中国动力谷自主创新园(研发中心C栋2楼202号）
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011461237.1
主分类号 ：
C01B32/21
IPC分类号 ：
C01B32/21 H01M4/62 H01M10/0525 B82Y30/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B32/00
碳；其化合物
C01B32/20
石墨
C01B32/21
后处理
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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