栅格
实质审查的生效
摘要
本发明实施例提供一种栅格，包括：承载主体；至少一个支撑柱，所述支撑柱位于所述承载主体上；所述支撑柱具有用于支撑样品的顶面；所述支撑柱内具有至少一个凹槽，所述凹槽自所述顶面指向所述承载主体方向延伸，且所述凹槽的槽壁与所述顶面连接。本发明实施例能够避免样品被二次离子污染，提高样品质量，进而提高后续透射电子显微镜的成像效果。
基本信息
专利标题 ：
栅格
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114464516A
申请号 ：
CN202011131978.3
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2020-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨威
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 ：
上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
成丽杰
优先权 ：
CN202011131978.3
主分类号 ：
H01J37/20
IPC分类号 ：
H01J37/20 H01J37/26 G01N23/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/20
物体或材料的支承或定位装置；与支架相联的光阑或透镜的调整装置
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/20
申请日 : 20201021
申请日 : 20201021
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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