基于光频梳的微纳器件表面轮廓线上测量装置及方法
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摘要
一种基于光频梳的微纳器件表面轮廓线上测量装置,包括光频梳,用于作为测量光源,输出宽谱脉冲;脉冲处理模块,用于对光频梳输出的宽谱脉冲进行预加啁啾和光谱分割,将宽谱脉冲处理成一串窄谱子脉冲;半透半反镜,用于将窄谱子脉冲分为参考光和信号光;衍射元件,用于将信号光进行衍射,将光谱分布转换成空间分布;信号光探测器,用于收集经待测样品反射后的并经过衍射元件和半透半反镜的信号光。采用单像素相机即可完成测量,降低了对探测器像素的要求。可通过增加子脉冲数量、增加脉冲重复频率和调节待测器件平移速度来提高轮廓测量横向分辨率。测量速度快,可用于产线上的微纳器件表面轮廓测量,满足高通量测量要求。
基本信息
专利标题 :
基于光频梳的微纳器件表面轮廓线上测量装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112146592A
申请号 :
CN202011005011.0
公开(公告)日 :
2020-12-29
申请日 :
2020-09-22
授权号 :
CN112146592B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
石俊凯李冠楠陈晓梅黎尧刘立拓高超董登峰周维虎
申请人 :
中国科学院微电子研究所
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
孙蕾
优先权 :
CN202011005011.0
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24 B82Y35/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-04-22 :
授权
2021-01-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20200922
申请日 : 20200922
2020-12-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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