适于远程等离子体清洗的反应腔室、沉积设备及清洗方法
授权
摘要
本发明公开了一种适于远程等离子体清洗的反应腔室、沉积设备及清洗方法，其中反应腔室包括：腔室主体；加热基座，加热基座设于腔室主体内；环形支撑部件，环形支撑部件环绕于加热基座的外周，环形支撑部件面向加热基座的表面为内表面，背向加热基座的表面为外表面，外表面的粗糙度大于内表面的粗糙度，环形支撑部件的材质为陶瓷；气体匀流栅，气体匀流栅设置于环形支撑部件上，且位于加热基座的上方。沉积设备包括：上述的反应腔室；等离子体清洗源腔室；清洗管路，清洗管路连通于等离子体清洗源腔室和反应腔室之间；气源管路，气源管路连通于清洗管路。本发明的有益效果在于，能够解决清洗腔室时造成反应腔室内部的结构组件损伤的问题。
基本信息
专利标题 ：
适于远程等离子体清洗的反应腔室、沉积设备及清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111471980A
申请号 ：
CN202010296604.0
公开（公告）日 ：
2020-07-31
申请日 ：
2020-04-15
授权号 ：
CN111471980B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
秦海丰史小平兰云峰王勇飞纪红赵雷超张文强
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京思创毕升专利事务所
代理人 ：
孙向民
优先权 ：
CN202010296604.0
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/455 C23C16/513
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-08-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20200415
申请日 : 20200415
2020-07-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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