一种化学气相沉积行星托盘装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积行星托盘装置，包括一基盘、一传动盘和多个与传动盘啮合的行星盘，传动盘和行星盘间隙设置于基盘的腔体内，腔体底部设有一开口，开口内设有一传动连接组件，传动连接组件一端与传动盘传动连接，传动连接组件另一端与基盘传动连接，基盘或所述传动连接组件由一驱动机构带动旋转，进而带动传动盘转动，传动连接组件底部设有一供辅助气体进入的支撑进气组件，支撑进气组件通过传动连接组件上的多个进气孔与开口连通。通过机械传动带动行星盘自转，保证各个行星盘的转速一致，同时，注入辅助气体使行星盘悬浮，辅助行星盘转动，消除机械振动，提高行星盘转动稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积行星托盘装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921592172.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-20
授权号 ：
CN211471545U
授权日 ：
2020-09-11
发明人 ：
梁土钦孔令沂孙国胜邓菁张新河李锡光
申请人 ：
深圳第三代半导体研究院
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观湖街道虎地排121号锦绣大地11号楼
代理机构 ：
广东莞信律师事务所
代理人 ：
蔡邦华
优先权 ：
CN201921592172.7
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/455 C30B25/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2020-09-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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