一种加厚型的弧形底铱金坩埚
授权
摘要
本实用新型公开了一种加厚型的弧形底铱金坩埚，包括弧形底铱金坩埚、加厚板；在所述的弧形底铱金坩埚设置的弧形底部设置第一光滑表面；在所述的加厚板的下方设置第二光滑表面；第一光滑表面与第二光滑表面紧密接触；并将所述的加厚板焊接在所述的弧形底铱金坩埚的弧形底部。本实用新型的技术效果在于，使其能够有效解决生长高温氧化物晶体时弧形底铱金坩埚出现铱金挥发以及变形的问题，使坩埚底部温场更加均匀和稳定，提高弧形底铱金坩埚的使用寿命，降低晶体生长及产业化成本，同时加强熔体的自然对流和提高晶体的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种加厚型的弧形底铱金坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921191366.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210636092U
授权日 ：
2020-05-29
发明人 ：
丁言国叶崇志
申请人 ：
上海新漫晶体材料科技有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区工业区叶城路1611号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921191366.6
主分类号 ：
C30B15/10
IPC分类号 ：
C30B15/10 C23C4/134 C23C4/11
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长，例如Czochralski法
C30B15/10
承载熔融液的坩埚或容器
法律状态
2020-05-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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