一种立式连续等离子增强气相沉积炉、方法
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摘要

本发明提出了立式连续等离子增强气相沉积炉、方法,所述立式连续等离子增强气相沉积炉设备立式设置,设有预热炉、进料仓、微波加热单元、真空料仓、出料仓,通过向石英管等离子反应仓连续投放物料实现了连续等离子增强气相沉积工艺,提高了加工效率;同时本发明设有多个微波加热模块,多个模块之间设有缓冲板,缓冲板上设有筛网,将物料再次通过筛网振动,筛入下个微波加热模块中的石英管中,减缓了物料的下降速度,提高沉积反应时间;微波加热模块中设有功率分配器,将微波功率分配至两个支路,在保证较大功率的同时,提高微波加热均匀性。

基本信息
专利标题 :
一种立式连续等离子增强气相沉积炉、方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111519170A
申请号 :
CN201910105864.2
公开(公告)日 :
2020-08-11
申请日 :
2019-02-01
授权号 :
CN111519170B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
言伟雄
申请人 :
株洲弗拉德科技有限公司
申请人地址 :
湖南省株洲市天元区黄河南路天台科技园科瑞路12号
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
杨千寻
优先权 :
CN201910105864.2
主分类号 :
C23C16/511
IPC分类号 :
C23C16/511  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/511
采用微波放电
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-09-04 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/511
申请日 : 20190201
2020-08-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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