照射试样的方法
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摘要
本发明涉及一种照射一试样或该试样的一个区域(关注区域ROI)的方法，在该方法中，将关于试样上的一个具体的点是否应该被照亮以及用什么方式照亮的信息，按照一个具体的地址存储在一个数据存储器中，其特征在于：检测试样的位置、取向和/或形状的变化，据此进行被照射的图形点的坐标转移，为被转移的坐标单值地分配存储器地址，根据存储器地址的原理在一个存储器上存取，并读取其内容来控制光源。
基本信息
专利标题 ：
照射试样的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1869649A
申请号 ：
CN200610079346.0
公开（公告）日 ：
2006-11-29
申请日 ：
2006-03-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
B·维茨戈夫斯基
申请人 ：
莱卡微系统CMS有限责任公司
申请人地址 ：
德国韦茨拉尔
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
魏军
优先权 ：
CN200610079346.0
主分类号 ：
G01N21/00
IPC分类号 ：
G01N21/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
法律状态
2013-12-25 ：
授权
2008-04-30 ：
实质审查的生效
2006-11-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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