除污上光乳
专利申请的视为撤回
摘要
一种除污上光乳，属于去污上光剂。它由按％重量计将石油醚有机溶剂10～40、甲基有机硅油5～25、二氧化硅或钙等金属氧化物除污剂0.5～5、乳化剂2～15、水用量加至100混合配制成乳化物。所述的乳化剂可为烷基酚聚氧乙烯醚的非离子型表面活性剂或烷基苄基卤化铵型的阳离子表面活性剂。该除污上光乳集除污上光于一体，除污力强，不破坏物品基面且光亮、价格低廉、用途广泛、加工简单、易于大规模生产、节省能源又不污染环境。
基本信息
专利标题 ：
除污上光乳
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1096529A
申请号 ：
CN94102395.8
公开（公告）日 ：
1994-12-21
申请日 ：
1994-03-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张维喜
申请人 ：
张维嘉
申请人地址 ：
150036黑龙江省哈尔滨市香坊区香顺街53号
代理机构 ：
黑龙江省专利服务中心
代理人 ：
林素珍
优先权 ：
CN94102395.8
主分类号 ：
C09G1/14
IPC分类号 ：
C09G1/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/06
其他抛光组合物
C09G1/14
基于非蜡物质的
法律状态
1997-02-19 ：
专利申请的视为撤回
1994-12-21 ：
公开
1994-12-14 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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