光磁记录载体及其制造方法和制造装置
专利权的终止
摘要
一种光磁记录载体,制造方法和制造装置,其特征在于,所述记录载体由过渡金属-稀土金属组成的记录层及叠层在其上的辅助记录层构成。记录层数百A厚,居里温度为Tcl。辅助记录层厚度在70A以下,居里温度为Tc2,矩形比在0.3以上。Tc2-Tc1>10K。制造装置包含第一靶、第二靶,第一靶表面最大磁力线密度低于第二靶表面的最大磁力线密度。按照本发明,解决了已往难以在受调磁场强度低于±100Oe下的磁场调制记录,具有足够高的CN比。
基本信息
专利标题 :
光磁记录载体及其制造方法和制造装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1089744A
申请号 :
CN93117451.1
公开(公告)日 :
1994-07-20
申请日 :
1993-07-29
授权号 :
CN1051629C
授权日 :
2000-04-19
发明人 :
川濑健夫石田方哉根桥聡下川渡聡御子柴俊明保科彰治高桑敦可宫泽弘
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
上海专利商标事务所
代理人 :
汪瑜
优先权 :
CN93117451.1
主分类号 :
G11B11/10
IPC分类号 :
G11B11/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B11/00
利用列入G11B3/00至G11B7/00的不同大组的或列入大组G11B9/00的不同小组的方法或装置在同一记录载体上进行记录或重现的;为此所用的记录载体
G11B11/10
使用激磁或退磁进行记录的
法律状态
2013-08-21 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101510923070
IPC(主分类) : G11B 11/10
专利号 : ZL931174511
申请日 : 19930729
授权公告日 : 20000419
期满终止日期 : 20130729
号牌文件序号 : 101510923070
IPC(主分类) : G11B 11/10
专利号 : ZL931174511
申请日 : 19930729
授权公告日 : 20000419
期满终止日期 : 20130729
2010-08-18 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101004031200
IPC(主分类) : G11B 11/10
专利号 : ZL931174511
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 精工爱普生株式会社
变更后权利人 : 贝斯蒂乐应用有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国东京都
变更后权利人 : 美国特拉华州
登记生效日 : 20100708
号牌文件序号 : 101004031200
IPC(主分类) : G11B 11/10
专利号 : ZL931174511
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 精工爱普生株式会社
变更后权利人 : 贝斯蒂乐应用有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国东京都
变更后权利人 : 美国特拉华州
登记生效日 : 20100708
2000-04-19 :
授权
1994-07-20 :
公开
1994-07-13 :
实质审查请求的生效
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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