原子印章数控数显制版机
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
一种原子印章数控数显制版机，属于液态、固态感光树脂制章、印刷制版专用设备。目前国内外已有的有关设备和技术中，不同程度地存在有由于结构复杂所致的体积庞大以及曝光定时的准确度不高等缺点。本实用新型在结构上布局合理，并且使用了数控数显定时曝光控制电路，设有同时上、下曝光装置，具有结构紧凑、曝光误差可小于或等于1％秒、性能稳定，操作安全简便、功能多用等优点。
基本信息
专利标题 ：
原子印章数控数显制版机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN87205721.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1987-03-27
授权号 ：
CN87205721U
授权日 ：
1988-09-28
发明人 ：
杨贵昌余云茳
申请人 ：
云南省印章公司
申请人地址 ：
云南省昆明市三义铺42号
代理机构 ：
云南省专利事务所
代理人 ：
欧亚平
优先权 ：
CN87205721.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/213
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
1991-08-21 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1989-08-02 ：
授权
1988-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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