微珠回向反射可剥性涂膜层的制造方法
专利权的终止
摘要
本发明属于化工和光学全息摄影技术的一种回向反射可剥性涂膜层制造方法，它是利用化工原料按一定工艺制成的。其主要用途为将激光技术应用干全息干涉检测，分析被测物体的真实状况而不致损害被测物体的表面。同时，如利用全息摄影，在将被摄物体表面涂有本发明的涂膜层后，可以大大降低光源的功率或大大增大被摄物的面积。
基本信息
专利标题 ：
微珠回向反射可剥性涂膜层的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86101898A
申请号 ：
CN86101898.2
公开（公告）日 ：
1987-09-30
申请日 ：
1986-03-20
授权号 ：
CN86101898B
授权日 ：
1988-08-10
发明人 ：
郭九如胡友惠卢凤纪谭玉山王喜洲
申请人 ：
西安交通大学
申请人地址 ：
陕西省西安市咸宁路28号
代理机构 ：
西安交通大学专利事务所
代理人 ：
汪人和
优先权 ：
CN86101898.2
主分类号 ：
C08J7/04
IPC分类号 ：
C08J7/04 C08L33/26 G03H1/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J7/00
高分子物质成形制品的化学处理或涂层
C08J7/04
涂层
法律状态
1990-08-15 ：
专利权的终止
1989-11-29 ：
被视为撤回的申请
1989-07-05 ：
授权
1988-08-10 ：
审定
1987-09-30 ：
公开
1987-09-23 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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