垂直磁性记录介质
专利权的终止专利权有效期届满
摘要

所公开的材料是有关垂直磁性记录介质的。其中从属层是由硅及/或锗作为主要成分的材料所组成。该从属层沉积在一衬底上而由钴基合金所做成的垂直磁膜则沉积在该从属层上。这种垂直磁性记录介质其垂直磁性膜的e轴定向度已经得到增强,且当衬底为非金属材料时。垂直磁性膜及衬底之间的结合强度也得到了加强。

基本信息
专利标题 :
垂直磁性记录介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN85103512A
申请号 :
CN85103512.4
公开(公告)日 :
1986-12-24
申请日 :
1985-05-02
授权号 :
CN85103512B
授权日 :
1988-12-21
发明人 :
二本正昭本多幸雄上坂保太郎吉田和悦
申请人 :
株式会社日立制作所;日立精机株式会社
申请人地址 :
日本东京都千代田区神田骏河台四丁目6番地
代理机构 :
中国专利代理有限公司
代理人 :
吴秉芬
优先权 :
CN85103512.4
主分类号 :
G11B5/66
IPC分类号 :
G11B5/66  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的;用磁性方法进行重现的;为此所用的记录载体
G11B5/62
按所用材料选择区分的记录载体
G11B5/64
仅由无须黏结剂的磁性材料构成的
G11B5/66
由多层材料组成的记录载体
法律状态
2000-12-20 :
专利权的终止专利权有效期届满
1989-10-18 :
授权
1988-12-21 :
审定
1986-12-24 :
公开
1985-10-10 :
实质审查请求
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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