一种基于可变背景的流场测量装置及方法
授权
摘要
本申请提供了一种基于可变背景的流场测量装置及方法,涉及纹影法定量测量技术领域,包括:LED平行背光源、液晶面板、相机、图像处理模块和背景图案生成模块;LED平行背光源,用于向液晶面板发射平行光源;背景图案生成模块,用于基于预设的背景图案生成算法,根据相机分辨率和视场生成最优背景图案,将最优背景图案发送至液晶面板进行显示;相机,用于对最优背景图案前未放置待测流场和最优背景图案前放置待测流场分别进行成像,得到第一图像和第二图像;图像处理模块,用于对第一图像和第二图像按照预设算法进行处理,得到待测流场的密度和温度。本申请根据测量需求更改背景图案的大小和样式,提高了待测流场的测量精度。
基本信息
专利标题 :
一种基于可变背景的流场测量装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114383668A
申请号 :
CN202210292219.8
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2022-03-24
授权号 :
CN114383668B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
杨立军李敬轩张玥梁炫烨
申请人 :
北京航空航天大学
申请人地址 :
北京市海淀区学院路37号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
宋南
优先权 :
CN202210292219.8
主分类号 :
G01D21/02
IPC分类号 :
G01D21/02 G06T5/40
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01D
非专用于特定变量的测量;不包含在其他单独小类中的测量两个或多个变量的装置;计费设备;非专用于特定变量的传输或转换装置;未列入其他类目的测量或测试
G01D21/00
未列入其他类目的测量或测试
G01D21/02
用不包括在其他单个小类中的装置来测量两个或更多个变量
法律状态
2022-05-24 :
授权
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01D 21/02
申请日 : 20220324
申请日 : 20220324
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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