一种单源双射线成像检测方法及装置
公开
摘要
本发明提供一种单源双射线成像检测方法及装置,方法包括:根据被检测物体的中子成像检测数据和X射线成像检测数据,确定被检测物体对于中子和X射线的透射衰减量;根据被检测物体对于中子和X射线的透射衰减量,计算被检测物体的材料属性参数;统计材料属性参数的分布,拟合出材料属性参数的高斯分布曲线;根据预设的判别阈值,对高斯分布曲线中超出预设分布范围的材料属性参数进行标记;根据标记出的材料属性参数确定被检测物体中目标对象的位置。在拟合出的材料属性参数高斯分布曲线中,对超出分布范围的属性参数进行标记,根据标记出的属性参数确定目标对象的位置,能够对被检测物体中目标对象的位置进行准确定位,提高了检测的精确度。
基本信息
专利标题 :
一种单源双射线成像检测方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114594113A
申请号 :
CN202210203812.0
公开(公告)日 :
2022-06-07
申请日 :
2022-03-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杨祎罡李元景王学武李玉兰张智于洋懿
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
北京市海淀区清华园
代理机构 :
北京润泽恒知识产权代理有限公司
代理人 :
苟冬梅
优先权 :
CN202210203812.0
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04 G01N23/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2022-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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