一种高温线性蒸发源装置
公开
摘要
本发明公开了一种高温线性蒸发源装置，包括水平放置底板，所述水平放置底板外表面的两侧均固定连接有真空罩外壳，所述真空罩外壳内壁的两侧均固定连接有高度微调装置，所述高度微调装置的数量设置为四个，所述高度微调装置为两两对称设置，所述高度微调装置包括与真空罩外壳固定连接的竖直稳定板，本发明涉及蒸发源技术领域。该高温线性蒸发源装置，装置能够通过对电机进行操控，进而控制倾斜角块对放置槽块的高度进行微调，从而保持放置槽块处于水平状体，进而能保持装置长期稳定工作，解决了蒸发源放置时，如果未能达到水平位置就关闭真空罩，非水平状态的蒸发源无法保持长期稳定的工作状态，影响镀膜效果的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种高温线性蒸发源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114517285A
申请号 ：
CN202210151668.0
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2022-02-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周焱文黄凯范冰庆
申请人 ：
武汉普昊科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区华师科技园大学园路20号2#大楼三层303-2室
代理机构 ：
湖北天领艾匹律师事务所
代理人 ：
余枭
优先权 ：
CN202210151668.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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