本发明涉及晶片清洗的技术领域，尤其涉及一种低污染清洗磷化铟晶体的清洗装置及清洗工艺。其中一种低污染清洗磷化铟晶体的清洗装置，包括：沥水部以及抖料部，抖料部设置在所述沥水部的上方，且所述抖料部包括若干个抖料机构和若干个延时机构，各抖料机构适于支撑晶片，各延时机构与各抖料机构一一对应，各延时机构依次转动以驱动各抖料机构依次转动；倒料部，所述倒料部设置在最后抖动晶片的抖料机构的位置处，且所述倒料部与最后一抖料机构联动；其中晶片平放在各所述抖料机构上后，各所述抖料机构依次转动以抖动其上的晶片并刮除晶片底部的水渍；最后一延时机构转动一圈时，驱动最后一抖料机构转动以带动所述倒料部带动晶片翘起。