提高法布里珀罗MEMS加速度敏感芯片模态分离比的结构
实质审查的生效
摘要
本发明涉及微机电系统技术领域，尤其涉及一种提高法布里珀罗MEMS加速度敏感芯片模态分离比的结构，包括固定镜面、可动镜面和支承座，所述可动镜面包括MEMS弹簧质量结构和第二光学薄膜；所述MEMS弹簧质量结构包括双层支撑梁结构、MEMS质量块和固定框架，所述双层支撑梁结构呈全对称设置；所述第二光学薄膜设置于MEMS质量块上。本发明能明显的提高芯片面外扭转模态频率和面外振动模态频率的比值，可显著抑制非敏感轴方向加速度信号作用下MEMS质量块面外扭转造成的交叉灵敏度以及对传感器灵敏度和量程的影响，保证了法布里珀罗腔固定镜面和可动镜面的平行度，也解决了测量过程中模态相互干扰的问题。
基本信息
专利标题 ：
提高法布里珀罗MEMS加速度敏感芯片模态分离比的结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114414846A
申请号 ：
CN202210096472.6
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2022-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
韦学勇李博赵明辉齐永宏蒋庄德
申请人 ：
西安交通大学
申请人地址 ：
陕西省西安市咸宁西路28号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
王艾华
优先权 ：
CN202210096472.6
主分类号 ：
G01P15/093
IPC分类号 ：
G01P15/093 B81B7/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01P
线速度或角速度、加速度、减速度或冲击的测量；运动的存在或不存在的指示；运动的方向的指示、传播时间或传播方向来测量固体物体的方向或速度入G01S；核辐射速度的测量入G01T）
G01P15/00
测量加速度；测量减速度；测量冲击即加速度的突变
G01P15/02
利用惯性力
G01P15/08
用变换成电或磁量
G01P15/093
采用光电法取样
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01P 15/093
申请日 : 20220126
申请日 : 20220126
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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