一种大范围高精度光束焦面跟踪装置
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种大范围高精度光束焦面跟踪装置,入射光束首先依次经过所述二分之一波片、偏振分束镜和四分之一波片,形成第一光束;第一光束经过所述物镜聚焦在样品表面,而聚焦在样品表面的激光被样品表面反射,依次经过物镜与四分之一波片后,被偏振分束镜反射到另一侧,形成第二光束;第二光束经过非偏振分束镜分解为第三光束与第四光束;第三光束经过所述第一柱面镜和第二柱面镜后,入射到所述四象限探测器的探测面上;第四光束经过所述透镜和针孔后,入射到所述光电倍增管探测器的探测面上。本发明与现有焦面跟踪装置相比,既可以保证高精度,又极大的扩展了焦面跟踪的范围。

基本信息
专利标题 :
一种大范围高精度光束焦面跟踪装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442257A
申请号 :
CN202210087665.5
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
匡翠方孙秋媛马程鹏丁晨良杨臻垚孙琦
申请人 :
之江实验室;浙江大学
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
应孔月
优先权 :
CN202210087665.5
主分类号 :
G02B7/28
IPC分类号 :
G02B7/28  G02B27/28  G02B27/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/28
聚焦信号的自动发生系统
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/28
申请日 : 20220125
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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