一种测试杂散光的方法及装置
授权
摘要
本发明公开了一种测试杂散光的方法及装置，涉及杂散光的测试评估领域，该方法包括以下步骤：获取设定位置下的每个局部发光区域产生的杂散光对待测成像系统的全视野亮度的影响；根据所有局部发光区域产生的杂散光对全视野亮度的影响，得到杂散光对待测成像系统的影响位置与大小。本发明中的测试杂散光的方法可以定位、定量分析杂散光影响。
基本信息
专利标题 ：
一种测试杂散光的方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114112330A
申请号 ：
CN202210085286.2
公开（公告）日 ：
2022-03-01
申请日 ：
2022-01-25
授权号 ：
CN114112330B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
洪志坤宁谦郑增强欧昌东刘荣华
申请人 ：
武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳园南路22号
代理机构 ：
武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张凯
优先权 ：
CN202210085286.2
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2022-03-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01M 11/02
申请日 : 20220125
申请日 : 20220125
2022-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
