本发明的实施例提供了一种镭射印字路径规划方法和镭射装置，涉及镭射印刻技术领域。该镭射印字路径规划方法包括确定目标图案的镭射起始位置；依据所述起始位置，采用绕线式填充在所述目标图案内形成路径线条；调整所述路径线条的间距；沿调整间距后的所述路径线条进行镭射印刻。采用绕线式填充的方式可以将目标图案填充的更满、镭射效果更好；并且，采用绕线式填充的路径可以大大减少机台运行的空行程，镭射效率更高，节省大量的时间。