图形内层制作时的四角L型对位方法以及对位结构
公开
摘要
图形内层制作时的四角L型对位方法与对位结构，其中对位方法包括如下步骤：S1：准备具有期望图形的底片以及四个L型对位件，其中，L型对位件设置有定位直角，定位直角由相互垂直设置的两个定位面组成；S2：将四个L型对位件布置在期望图形周边，使四个L型对位件的四个定位直角之间形成用于定位电路板的矩形定位区。本发明，在图形内层制作时，通过将四个L型对位件布置在期望图形周边并使得四个L型对位件的四个定位直角之间形成用于定位电路板的矩形定位区，矩形定位区能够让底片上的图形与电路板上目标区域位置很好地对准，满足高精度的图形制作，提升了内层图形制作的质量。
基本信息
专利标题 ：
图形内层制作时的四角L型对位方法以及对位结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114567970A
申请号 ：
CN202210052352.6
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张华弟秦衎陈崚嵘王涛郭世永曾松李传明周启俊胡德忠张齐冬
申请人 ：
广德新三联电子有限公司
申请人地址 ：
安徽省宣城市广德县经济开发区PCB产业园
代理机构 ：
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵佳
优先权 ：
CN202210052352.6
主分类号 ：
H05K3/00
IPC分类号 ：
H05K3/00
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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