扩散匀化装置
实质审查的生效
摘要
扩散匀化装置包括具有多个透镜(6)的第一透镜阵列(3)和具有多个透镜(7)的第二透镜阵列(5)，在该扩散匀化装置工作期间，光连续通过多个透镜(7)，该扩散匀化装置包括具有入射面(2)和出射面(4)的第一透明基板(10)以及具有入射面(2)和出射面(4)的第二透明基板(11)，其中，第一透镜阵列(3)设置在第一基板(10)上且第二透镜阵列(5)设置在第二基板(11)上，或者，第二透镜阵列(5)设置在第一基板(10)上且第一透镜阵列(3)设置在第二基板(11)上，其中，第一基板(10)与第二基板(11)彼此隔开，特别是在第一基板(10)与第二基板(11)之间设置有气隙(12)。一个具有该扩散匀化装置的测距装置和具有该扩散匀化装置的激光雷达装置。
基本信息
专利标题 ：
扩散匀化装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114503013A
申请号 ：
CN202180005724.3
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·克拉斯纳伯斯基D·豪斯奇尔德
申请人 ：
西安炬光科技股份有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区丈八六路56号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
崔熠
优先权 ：
CN202180005724.3
主分类号 ：
G02B27/09
IPC分类号 ：
G02B27/09 G02B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形，例如改变横截面积
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/09
申请日 : 20210118
申请日 : 20210118
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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