一种抛光垫及抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种抛光垫及抛光装置，用于对超薄柔性玻璃的弯折位置处的凹槽线条进行抛光处理，包括抛光垫本体，抛光垫本体包括硬质抛光盘和柔性抛光层，柔性抛光层形成于硬质抛光盘的底面。该抛光垫在对超薄柔性玻璃的弯折位置处的凹槽线条进行抛光处理时，由于硬质抛光盘的底面形成有柔性抛光层，柔性抛光层受压形变能够改善抛光垫局部平整度不均衡的缺陷，提升抛光垫与产品面接触均匀性，改善抛光均匀性及降低超薄柔性玻璃压破的风险。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光垫及抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123059218.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-07
授权号 ：
CN216542675U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
张迅易伟华孙骏超
申请人 ：
江西沃格光电股份有限公司
申请人地址 ：
江西省新余市高新技术产业开发区西城大道沃格工业园
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
李海建
优先权 ：
CN202123059218.9
主分类号 ：
B24B37/22
IPC分类号 ：
B24B37/22 B24B37/10
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/20
用于加工平面的研磨垫
B24B37/22
以多层结构为特征
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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