本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积镀膜装置，涉及镀膜技术领域，包括真空室，真空室顶部固定连接有射频电源接入口，真空室左侧壁固定连接有原料气体接入口，真空室右侧壁固定连接有真空抽气口，真空室内壁顶部等距固定连接有多个烘烤灯，真空室内部设有基材，所述原料气体接入口右端固定连接有气体均匀分布机构，所述气体均匀分布机构位于真空室内部上方，所述基材由升降机构连接在真空室内部，所述真空室底部设有减震机构，本实用新型可有效提高原料气体的初始均匀度，使得原料气体快速且均匀的分布在基材周围的空间，有利于基材表面所形成的薄膜的质量。