一种明暗两用地漏
授权
摘要
本实用新型公开了一种明暗两用地漏，包括底座和罩体，底座设有安装槽和支撑限位部；支撑限位部凸出于安装槽的槽底并设有支撑部和第一定位部，支撑部形成第一支撑面；排水口连通支撑限位部与安装槽间的间隙；罩体设有第一填浆槽、第二支撑面和第二定位部；第一填浆槽的槽壁设有适于防止砂浆漏出的过水孔；其被配置为适于座落于安装槽的槽底并与支撑部配合定位及与安装槽的槽壁间形成第一过水间隙；第二支撑面背离第一填浆槽的开口方向且平行于第一填浆槽的槽口所在平面；第二定位部被配置为适于在第二支撑面座落于第一支撑面时与第一定位部配合定位，解决地漏因不同时适于明、暗装导致无法满足用户需求，成本高问题，从而满足用户需求，减少成本。
基本信息
专利标题 ：
一种明暗两用地漏
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122855026.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
CN216616156U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
林孝发林孝山张金星金磊曾安明
申请人 ：
九牧厨卫股份有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市南安经济开发区九牧工业园
代理机构 ：
厦门龙格思汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱益萍
优先权 ：
CN202122855026.2
主分类号 ：
E03F5/04
IPC分类号 ：
E03F5/04 E03F5/042 E03F5/06
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E03
给水；排水
E03F
下水道，污水井
E03F5/00
排水构筑物
E03F5/04
带或不带防止臭气扩散的密封装置或沉淀集水坑的排水井
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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