一种用于半导体清洗设备的排水装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于半导体清洗设备的排水装置,其包括外壳,外壳内部的底端固定设置有电动机与抽水机,抽水机的输出端穿过外壳的侧壁与出水管固定连接;抽水机的输入端穿过隔断板;隔断板横向固定设置在外壳的内部,外壳的内壁固定设置有第一肋柱以及第二肋柱;第一肋柱的上端设置有第一过滤网;第二肋柱的上端设置有第二过滤网;外壳上端的侧壁内部贯通连接有进水管;出水管远离外壳的一端内部贯通连接有进水头;进水头的内部开设有进水口;进水头的一端固定设置有清洁头;本实用新型结构简单,便于更换,具备较好的过滤功能,可以有效降低废水中的污染物的含量,且可以多次利用清洗液,达到充分利用清洗液的目的。
基本信息
专利标题 :
一种用于半导体清洗设备的排水装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122699906.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-05
授权号 :
CN216614216U
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
周明
申请人 :
无锡市安晏克半导体有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区观山路5号金投集成电路产业园B区103号
代理机构 :
北京索睿邦知识产权代理有限公司
代理人 :
曹蓓蓓
优先权 :
CN202122699906.5
主分类号 :
C02F9/02
IPC分类号 :
C02F9/02 B01D29/58 B01D29/96
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/02
包括分离步骤
法律状态
2022-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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