一种用于半导体元件加工的清洗架
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于半导体元件加工的清洗架，包括清洗架本体，所述清洗架本体前侧靠近底部处开设有开口，所述清洗架本体前侧设有与开口相匹配的开关门，所述开关门的左侧设有若干个合页，通过设置喷洒机构，通过齿条板、横杆、第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、转动轴、主动齿轮、半齿轮和转动杆这些部件的相互配合对半导体元件进行往复清洗，增强了清洗效果，提高了工作效率，通过设置夹持机构，通过移动板、固定板、竖杆、弹簧、拉环、螺纹杆、螺纹套、活动板、C形板和直杆这些部件的相互配合对半导体清洗时进行夹持，提高了夹持的稳定性，避免夹持不稳定导致半导体元件脱落，造成半导体元件损坏。
基本信息
专利标题 ：
一种用于半导体元件加工的清洗架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122451437.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-12
授权号 ：
CN216359207U
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
李顺
申请人 ：
李顺
申请人地址 ：
新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市经济技术开发区玄武湖路999号领俊公寓18号5B13室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122451437.5
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00 H01L21/687
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-04-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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