一种新型的磁分离清洗装置
授权
摘要

本实用新型提供的一种新型的磁分离清洗装置,包括第二转盘,第二转盘上设有取放工位,以及至少一个小清洗流程,取放工位与小清洗流程构成循环,取放工位用于放入或取下反应杯,反应杯能经过小清洗流程进行清洗,清洗完的反应杯能回到取放工位上,小清洗流程包括吸废液工位和清洗工位,同一个小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位的前侧,或者,同一个小清洗流程内的清洗工位位于吸废液工位的前侧。本实用新型通过调整工位的数量、位置,以及对应的磁分离位置、数量以及磁分离的时间,达到装置在t时间内完成2个或2个以上的反应杯的清洗,或是2种或2种以上的反应杯的清洗,同时仅利用一个磁分离清洗装置,减少了空间占用率。

基本信息
专利标题 :
一种新型的磁分离清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121326990.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-06-15
授权号 :
CN216679437U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
方剑秋吴刚杨健雄钟春梅
申请人 :
杭州深度生物科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区仓前街道余杭塘路2959号1幢4层
代理机构 :
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
向庆宁
优先权 :
CN202121326990.X
主分类号 :
B08B9/20
IPC分类号 :
B08B9/20  B08B13/00  B03C1/02  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B9/00
用专门的方法或设备清洁空心物品
B08B9/08
清洗容器,如槽的清洗
B08B9/20
使用机器,容器如瓶子、罐被引入机器内或机器上
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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