蒸发源及真空蒸镀系统
公开
摘要
本公开提供了一种蒸发源，包括：蒸发源基座，包括多个承载单元，用于承载一种或多种蒸发材料；加热装置，用于对多个承载单元中的工作承载单元中的蒸发材料进行加热；以及驱动装置，与蒸发源基座连接，用于驱动蒸发源基座运动以切换工作承载单元。
基本信息
专利标题 ：
蒸发源及真空蒸镀系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481039A
申请号 ：
CN202111651447.1
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
阿力甫·库提鲁克梅新灵陈亚男洪巍方农华
申请人 ：
费勉仪器科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区顾村工业园区富联二路189号4幢
代理机构 ：
上海国瓴律师事务所
代理人 ：
傅耀
优先权 ：
CN202111651447.1
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/30 C23C14/28
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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