密封构件和用于处理基板的设备
公开
摘要
本发明构思提供一种密封构件，该密封构件插入形成于处理基板的腔室中的凹槽中。该密封构件在横截面中包括：底部部分；顶部部分，其与底部部分相对；内部部分，其与底部部分及顶部部分的一个侧部连续；外部部分，其与内部部分相对且与底部部分及顶部部分的其他侧部连续；凹陷部分，其形成于外部部分与顶部部分之间。
基本信息
专利标题 ：
密封构件和用于处理基板的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114623234A
申请号 ：
CN202111489333.1
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴承勋李相旼李钟斗诸振模李暎熏
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
钟锦舜
优先权 ：
CN202111489333.1
主分类号 ：
F16J15/06
IPC分类号 ：
F16J15/06 H01L21/67
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F16
工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J15/00
密封
F16J15/02
在相对固定的面之间
F16J15/06
带有压紧在密封面之间的固体填料
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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